La tecnología de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE), desarrollada por ASML, utiliza luz con una longitud de onda de 13,5 nanómetros para transferir patrones geométricos a las obleas de silicio. Esta precisión extrema permite, teóricamente, escribir el texto completo de 'El Señor de los Anillos' en el filo de una hoja de papel, una demostración de la capacidad de resolución de estos equipos. La elección de esta longitud de onda específica se debió a la necesidad de evitar elementos tóxicos como el berilio y los problemas de compatibilidad con los fotorresistentes orgánicos, descartando opciones de 11,4, 6,6 y 4,8 nanómetros. El proceso requiere espejos de Zeiss pulidos a nivel atómico con precisión inferior a un nanómetro, utilizando molibdeno y silicio. Actualmente, fabricantes como TSMC, Intel, Samsung, SK hynix y Micron emplean esta tecnología, mientras que los equipos de alta apertura (High-NA) aumentan la resolución mediante un valor de apertura de 0,55. La próxima generación, Hyper-NA, mantendrá la misma longitud de onda pero incrementará el valor de apertura a 0,75 para mejorar aún más la densidad de circuitos integrados, con un primer equipo previsto para 2033.
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