Intel Foundry se convirtió el 15 de julio de 2026 en la primera fundición del mundo en llevar la litografía EUV de alta apertura numérica (High-NA) a la fabricación en volumen, según confirmó ASML. Los procesadores Panther Lake, Core Ultra Series 3 para portátiles fabricados en el nodo Intel 18A, ya salen de la fábrica D1X de Hillsboro (Oregón) con un subconjunto de capas litografiadas en la herramienta High-NA EXE:5200B de ASML, valorada en unos 380 millones de dólares y capaz de procesar unas 175 obleas por hora con una alineación de 0,7 nm.
Intel había recibido esta máquina a finales de 2025 y la venía calibrando junto a ASML. Ahora las capas High-NA están cualificadas tanto en Oregon como en equipos EUV convencionales, con rendimientos comparables a los escáneres Low-NA de baja apertura, según Intel. Esto significa que los primeros portátiles Panther Lake con transistores parcialmente impresos en una herramienta High-NA ya se distribuyen a clientes.
La litografía High-NA eleva la apertura numérica de 0,33 a 0,55, lo que reduce en aproximadamente un tercio el tamaño mínimo de cada exposición y permite sustituir dos o tres pasos EUV convencionales por uno solo. El sistema EXE:5200B procesa la mitad de campo por disparo, lo que obliga a coser dos mitades para obtener un dado completo. Intel no comercializará los chips Panther Lake con etiqueta High-NA diferenciada.
Este hito coloca a Intel por delante de TSMC, que ha decidido saltarse High-NA en sus nodos de 2 nm y A16. SK hynix y Samsung también han adquirido equipos similares.