China ha presentado un prototipo funcional de una fuente de luz de ultravioleta extrema (UVE) en la Feria de la Industria Internacional de China, impulsado por la empresa Langdao Silex. Este avance es crucial para el desarrollo de la fabricación de circuitos integrados de vanguardia, ya que las sanciones de Estados Unidos y Países Bajos han impedido a ASML vender sus equipos de litografía UVE a clientes chinos. El objetivo del gobierno chino es tener sus propias máquinas UVE operativas antes de que expire la década de 2030, aunque la producción en serie aún se estima entre tres y cinco años.
El desarrollo de esta tecnología es extremadamente complejo debido a la necesidad de generar radiación con una longitud de onda de 13,5 nm de forma estable. El proceso, similar al de una supernova, utiliza láseres de alta potencia para calentar gotas de estaño hasta medio millón de grados Celsius, creando un plasma que emite la luz necesaria. Aunque Huawei ya opera un prototipo en Shenzhen, Langdao Silex destaca que el 90% de los componentes de su sistema son de fabricación nacional. Este hito representa un paso significativo en la independencia tecnológica china, aunque no implica que sus equipos estén listos para el mercado a corto plazo.