Un equipo de la Academia China de Ciencias en Shanghái, dirigido por el excientífico de ASML Lin Nan, ha desarrollado la primera plataforma china de fuente de luz UVE por láser-plasma basada en un láser de estado sólido de 1 micra que golpea un blanco de estaño sólido, un enfoque distinto al método LPP de ASML (láser de CO2 contra gotas de estaño) que permite sortear más de 2.000 patentes de la compañía neerlandesa. La columnista Qiu Yanfang ha calificado la maniobra de ingeniería genuina, aunque advierte que, a corto plazo, la cadena de suministro global sigue pivotando alrededor del láser de CO2 y China todavía está lejos de la producción a gran escala.
Lin Nan regresó a China en 2021 desde ASML, donde fue responsable técnico de fuentes de luz para metrología, y en diciembre de 2024 publicó un artículo defendiendo los láseres de estado sólido como fuente de próxima generación por su tamaño compacto y mayor eficiencia de conversión. En paralelo, Reuters reveló en diciembre de 2025 que Huawei coordina un proyecto más hermético en un laboratorio de alta seguridad de Shenzhen —con la participación de los institutos de Harbin y Changchún, SMEE y SiCarrier— que ya cuenta con un prototipo operativo, aunque sin fabricar circuitos integrados funcionales. El Gobierno chino aspira a producir chips UVE en 2028, aunque los analistas consideran 2030 una fecha más realista.
La noticia coincide con las dudas del secretario de Comercio estadounidense Howard Lutnick, que planteó a ASML la posibilidad de que una de sus 314 máquinas UVE operativas haya llegado a China por canales clandestinos; la compañía lo niega rotundamente.